SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析，适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度，微光斑，可视化调平系统等高兼容性灵活配置，多功能模块定制化设计。 高精度椭偏测量解决方案；超高精度、快速无损测量；支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制；丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力。 广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。
产品型号 |
SE-VM光谱椭偏仪 |
主要特点 |
1、采用高性能进口复合光源，光谱覆盖可见到近红外范围 (380-1000nm) 2、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集 3、支持系列配置灵活，可根据不同应用场景支持多功能模块化定制 4、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料 |
技术参数 |
1、自动化程度：手动变角 2、应用定位：通用型 3、基本功能：Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱 4、分析光谱380-1000nm(可扩至210-1650nm) 5、单次测量时间：0.5-5s 6、重复性測量精度：0.01nm 7、光斑大小：大光斑2-3mm,微光斑200μm 8、入射角调节方式：手动变角 9、入射角范围：55-75°(5°步进),90° 10、找焦方式：手动找焦 11、Mapping行程：不支持 12、支持样件尺寸：*大至180mm |
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